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フォトマスク 単行本(ソフトカバー) – 2011/4/20


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商品の説明

内容紹介

フォトマスクは半導体のウェーハ上に回路配線を形成するために用いる原版のこと。フォトマスクの製造技術の進歩はハイテク産業の進歩につながる。本書は次世代技術をささえるフォトマスク技術について,開発に携わる著者がわかりやすく,体系的にまとめたものである。半導体関連,ディスプレイ関連,マイクロマシン関連技術に携わる技術者,研究者におすすめ。

著者略歴 (「BOOK著者紹介情報」より)

田邉/功
1961年千葉大学工学部工業化学科写真映画専攻(現情報画像工学科)卒業。1961‐81年(株)日立製作所:カラーTV用シャドウマスク、IC、LSI用フォトマスクの技術開発、生産(武蔵工場マスク課長)。1981‐89年HOYA(株):LSI、FPD用フォトマスクの事業化(八王子工場長)。1989‐93年HOYA Micro Mask Inc.:LSI用フォトマスク、新型プローブカードの技術開発(EVP&CTO)

竹花/洋一
1969年大阪大学大学院理学研究科無機・物理化学専攻(修士)卒業。1969‐90年(株)日立製作所:計測装置の技術開発、LSI用フォトマスクの技術開発、生産(デバイス開発センター主任技師)。1990‐99年HOYA(株)八王子工場:LSI、FPD用フォトマスクの技術開発、生産(八王子工場長)。1994‐2001年PMJ実行委員。1999‐2004年HOYA(株)R&Dセンター:次世代マスクの技術開発(担当部長)

法元/盛久
1974年早稲田大学理工学部物理学科卒業。1974‐2000年(株)日立製作所:半導体用フォトマスクの技術開発、生産(マスクセンター長)。1994‐2006年PMJ論文委員(2005‐06年論文委員長)。2000‐02年大日本印刷(株)電子デバイス研究所:半導体用フォトマスクの技術開発(主席研究員)。2002年~現在、大日本印刷(株)研究開発センター:次世代マスクおよびナノインプリントの技術開発(プロジェクトリーダー)(本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです)


登録情報

  • 単行本(ソフトカバー): 328ページ
  • 出版社: 東京電機大学出版局 (2011/4/20)
  • 言語: 日本語
  • ISBN-10: 4501328207
  • ISBN-13: 978-4501328207
  • 発売日: 2011/4/20
  • 梱包サイズ: 21 x 15 x 2.2 cm
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