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入門フォトマスク技術―LSI,FPD,PWB,MEMSのためのフォトマスク
入門フォトマスク技術―LSI,FPD,PWB,MEMSのためのフォトマスク
田邉 功 , 法元 盛久 , 竹花 洋一
おすすめ度: 5つ星のうち 5.0  レビューをすべて見る (1)
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内容(「MARC」データベースより)
半導体ならびに電子部品分野の技術に関係している方々を対象に、マスク技術に関する基本的な項目、内容を網羅した参考書。半導体デバイスのみならず、FPDとPWB、ならびにMEMSで使用されるマスクについても記述。  続きを読む

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