商品の説明
内容（「MARC」データベースより）
半導体ならびに電子部品分野の技術に関係している方々を対象に、マスク技術に関する基本的な項目、内容を網羅した参考書。半導体デバイスのみならず、FPDとPWB、ならびにMEMSで使用されるマスクについても記述。
著者略歴 (「BOOK著者紹介情報」より)
田邉 功
1961年千葉大学工学部工業化学科写真映画専攻(現情報画像工学科)卒業。1961―81年(株)日立製作所:カラーTV用シャドウマスク、IC、LSI用フォトマスクの開発、生産に従事(武蔵工場マスク課長)。1981―89年HOYA(株):LSI、LCD用フォトマスクの事業化(八王子工場長)。1989―93年Micro Mask Inc.(米):LSIフォトマスク、新型プローブカードの技術開発(Executive Vice President & Chief Technical Officer)。1993―95年HOYA(株):新型プローブカードの製品開発(電子事業部プロジェクトリーダ)。1995―2002年(株)日本マイクロニクス:新型プローブカードのフォトリソ技術開発(技師長)。2002―03年(株)スピナカー・システムズ:LSI設計用EDA、IPの輸入販売(代表取締役社長)。2003年~現在、(有)ITコンサルティング:フォトマスク、MEMS、実装用フォトリソ等の技術コンサルティング。シニアパワーの有効活用化システム確立推進(代表取締役社長)
竹花 洋一
1969年大阪大学大学院理学研究科無機・物理化学専攻(修士)卒業。1969―90年(株)日立製作所:当初電子計測器開発に従事。1975年以降大型コンピュータ向けLSI用フォトマスクの技術開発と製造に従事。1997―1981年電子線マスク描画技術開発のため(株)コンピュータ総合研究所本部研究部に出向(デバイス開発センタ主任技師)。1990―2004年HOYA(株):LSI用フォトマスクの技術開発ならびに製造に従事(八王子工場長)。1994―2001年PMJ実行委員会委員。1999年~現在、半導体技術ロードマップ専門委員会委員(STRJ‐WG5)。2004年~現在、MET研究所:マスク技術関連コンサルティングに従事(所長)
法元 盛久
1974年早稲田大学理工学部物理学科卒業。1974―2000年(株)日立製作所:半導体用フォトマスクの技術開発と製造に従事(半導体事業部マスクセンター長)。2000年~現在、大日本印刷(株):半導体用フォトマスクおよび電子線リソグラフィ用マスクの技術開発に従事(主席研究員)。1994―2006年PMJ論文委員会委員(2005―2006年論文委員会委員長)。2006~現在、PMJ実行委員会副委員長(本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです)
1961年千葉大学工学部工業化学科写真映画専攻(現情報画像工学科)卒業。1961―81年(株)日立製作所:カラーTV用シャドウマスク、IC、LSI用フォトマスクの開発、生産に従事(武蔵工場マスク課長)。1981―89年HOYA(株):LSI、LCD用フォトマスクの事業化(八王子工場長)。1989―93年Micro Mask Inc.(米):LSIフォトマスク、新型プローブカードの技術開発(Executive Vice President & Chief Technical Officer)。1993―95年HOYA(株):新型プローブカードの製品開発(電子事業部プロジェクトリーダ)。1995―2002年(株)日本マイクロニクス:新型プローブカードのフォトリソ技術開発(技師長)。2002―03年(株)スピナカー・システムズ:LSI設計用EDA、IPの輸入販売(代表取締役社長)。2003年~現在、(有)ITコンサルティング:フォトマスク、MEMS、実装用フォトリソ等の技術コンサルティング。シニアパワーの有効活用化システム確立推進(代表取締役社長)
竹花 洋一
1969年大阪大学大学院理学研究科無機・物理化学専攻(修士)卒業。1969―90年(株)日立製作所:当初電子計測器開発に従事。1975年以降大型コンピュータ向けLSI用フォトマスクの技術開発と製造に従事。1997―1981年電子線マスク描画技術開発のため(株)コンピュータ総合研究所本部研究部に出向(デバイス開発センタ主任技師)。1990―2004年HOYA(株):LSI用フォトマスクの技術開発ならびに製造に従事(八王子工場長)。1994―2001年PMJ実行委員会委員。1999年~現在、半導体技術ロードマップ専門委員会委員(STRJ‐WG5)。2004年~現在、MET研究所:マスク技術関連コンサルティングに従事(所長)
法元 盛久
1974年早稲田大学理工学部物理学科卒業。1974―2000年(株)日立製作所:半導体用フォトマスクの技術開発と製造に従事(半導体事業部マスクセンター長)。2000年~現在、大日本印刷(株):半導体用フォトマスクおよび電子線リソグラフィ用マスクの技術開発に従事(主席研究員)。1994―2006年PMJ論文委員会委員(2005―2006年論文委員会委員長)。2006~現在、PMJ実行委員会副委員長(本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです)
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フォトマスクに関する唯一の一般解説書,
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レビュー対象商品: 入門フォトマスク技術―LSI,FPD,PWB,MEMSのためのフォトマスク (単行本)
同じ著者による前著「フォトマスク技術のはなし」（1996）の改訂版的な本ですが、大幅にアップデート、増補されており、ほぼ書き直したと言っていい内容だと思います。前著が役に立った人なら、買い直しても後悔はしないでしょう。フォトマスクに関する一般向け解説書はほとんどなく、この本が唯一に近いのと、基礎知識から最先端までカバーされているので、フォトマスクに関係することになった人にとっては必読の書であると思います。今回の新版で「MEMS用フォトマスク」もスコープに入ってきたのですが、あまり詳細な記述ではありませんでした。MEMSでは半導体以外の他分野から参入する人が多いので、もう少し詳しく具体的な解説がほしかったところです。
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