よく一緒に購入されている商品
商品の説明
内容紹介
フォトマスクは半導体のウェーハ上に回路配線を形成するために用いる原版のこと。フォトマスクの製造技術の進歩はハイテク産業の進歩につながる。本書は次世代技術をささえるフォトマスク技術について，開発に携わる著者がわかりやすく，体系的にまとめたものである。半導体関連，ディスプレイ関連，マイクロマシン関連技術に携わる技術者，研究者におすすめ。
著者略歴 (「BOOK著者紹介情報」より)
田邉 功
1961年千葉大学工学部工業化学科写真映画専攻(現情報画像工学科)卒業。1961‐81年(株)日立製作所:カラーTV用シャドウマスク、IC、LSI用フォトマスクの技術開発、生産(武蔵工場マスク課長)。1981‐89年HOYA(株):LSI、FPD用フォトマスクの事業化(八王子工場長)。1989‐93年HOYA Micro Mask Inc.:LSI用フォトマスク、新型プローブカードの技術開発(EVP&CTO)
竹花 洋一
1969年大阪大学大学院理学研究科無機・物理化学専攻(修士)卒業。1969‐90年(株)日立製作所:計測装置の技術開発、LSI用フォトマスクの技術開発、生産(デバイス開発センター主任技師)。1990‐99年HOYA(株)八王子工場:LSI、FPD用フォトマスクの技術開発、生産(八王子工場長)。1994‐2001年PMJ実行委員。1999‐2004年HOYA(株)R&Dセンター:次世代マスクの技術開発(担当部長)
法元 盛久
1974年早稲田大学理工学部物理学科卒業。1974‐2000年(株)日立製作所:半導体用フォトマスクの技術開発、生産(マスクセンター長)。1994‐2006年PMJ論文委員(2005‐06年論文委員長)。2000‐02年大日本印刷(株)電子デバイス研究所:半導体用フォトマスクの技術開発(主席研究員)。2002年~現在、大日本印刷(株)研究開発センター:次世代マスクおよびナノインプリントの技術開発(プロジェクトリーダー)(本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです)
1961年千葉大学工学部工業化学科写真映画専攻(現情報画像工学科)卒業。1961‐81年(株)日立製作所:カラーTV用シャドウマスク、IC、LSI用フォトマスクの技術開発、生産(武蔵工場マスク課長)。1981‐89年HOYA(株):LSI、FPD用フォトマスクの事業化(八王子工場長)。1989‐93年HOYA Micro Mask Inc.:LSI用フォトマスク、新型プローブカードの技術開発(EVP&CTO)
竹花 洋一
1969年大阪大学大学院理学研究科無機・物理化学専攻(修士)卒業。1969‐90年(株)日立製作所:計測装置の技術開発、LSI用フォトマスクの技術開発、生産(デバイス開発センター主任技師)。1990‐99年HOYA(株)八王子工場:LSI、FPD用フォトマスクの技術開発、生産(八王子工場長)。1994‐2001年PMJ実行委員。1999‐2004年HOYA(株)R&Dセンター:次世代マスクの技術開発(担当部長)
法元 盛久
1974年早稲田大学理工学部物理学科卒業。1974‐2000年(株)日立製作所:半導体用フォトマスクの技術開発、生産(マスクセンター長)。1994‐2006年PMJ論文委員(2005‐06年論文委員長)。2000‐02年大日本印刷(株)電子デバイス研究所:半導体用フォトマスクの技術開発(主席研究員)。2002年~現在、大日本印刷(株)研究開発センター:次世代マスクおよびナノインプリントの技術開発(プロジェクトリーダー)(本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです)
登録情報
|
この商品にタグをつける(詳細)タグは、商品との関連性が非常に強いキーワードまたはラベルのようなものです。
タグにより、すべてのお客様がお気に入りの商品の整理と確認を行うことができます。 ※タグは初期設定で公開になっています。詳しくはこちら |
カスタマーレビュー
リストマニア
同じキーワードの商品を探す
フィードバック
- カタログ情報、または画像について報告
- 著者からのコメント
- 出版社からのコメント
|
