内容(「MARC」データベースより)
ナノフォトニクスという新しい概念に基づく加工やデバイスの原理を詳しく解説。今後のナノフォトニクスの発展のために取り組むべき課題についても展望する。各章末には理解を深める演習問題を付す。
著者略歴 (「BOOK著者紹介情報」より)
大津 元一
現職、東京大学大学院工学系研究科教授。1978年、東京工業大学大学院理工学研究科電子物理工学専攻博士後期課程修了。同年同大学助手、助教授を経て、1991年同大学大学院総合理工学研究科教授、2004年東京大学大学院工学系研究科教授。この間、1986~1987年、東京工業大学休職、米国AT&Tベル研究所研究員。現在までに(財)神奈川科学技術アカデミー、大津「フォトン制御」プロジェクトリーダー、同財団、光科学重点研究室、大津・斎木グループリーダー、科学技術振興事業団、創造科学技術推進事業、大津「局在フォトン」プロジェクト総括責任者を兼任。現在、経済産業省、大容量光ストレージ研究開発事業、研究総括責任者、文部科学省リーディングプロジェクト、「近接場光リソグラフィ装置開発」研究責任者、(独)科学技術推進機構、戦略的創造研究推進事業、「ナノフォトニクス」チームリーダーを各兼任。専門分野はナノフォトニクス、アトムフォトニクス、近接場光学
小林 潔
現職、東京工業大学大学院理工学研究科物性物理学専攻/基礎物理学専攻21世紀COE「量子ナノ物理学」特任教授。1982年、筑波大学大学院物理学研究科物理学専攻博士課程修了(理学博士)。同年、日本アイ・ビー・エム(株)東京基礎研究所研究員。1998年、科学技術振興事業団ERATOグループリーダー(本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです)