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はじめての半導体リソグラフィ技術 (現場の即戦力)
 
 

はじめての半導体リソグラフィ技術 (現場の即戦力) [単行本(ソフトカバー)]

岡崎 信次 , 鈴木 章義 , 上野 巧
5つ星のうち 5.0  レビューをすべて見る (1 カスタマーレビュー)
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商品の説明

内容紹介

半導体リソグラフィ技術は,半導体集積回路の微細化,高集積化を牽引してきた中心的な技術です。しかもその技術は,パターンの原版となるマスクを作るマスク技術から,露光を行う露光装置技術,そして露光した潜像をレジストパターンとして,実際の加工につなげるレジストまで含む大きなシステム技術となっています。本書では,光,電子線,X線,EUV光,その他のエネルギー線にわけて,それらのエネルギーレベル毎のリソグラフィ技術をわかりやすく紹介しています。さらにリソグラフィ技術を支えるマスク技術,レジスト技術,計測評価技術についても詳細に解説しています。またリソグラフィ技術の進化が必ずしも半導体技術だけを中心にして進むとは限らない状況も生まれています。今後はメディアやMEMSなど,さまざまな応用分野に,リソグラフィ技術が応用されると思われます。そういう分野の方々への入門書としても活用できる一冊です。

内容(「BOOK」データベースより)

半導体集積回路の発展を支えてきたのは、微細なパターンを造り出す半導体リソグラフィ技術である。本書はこの変遷の激しいリソグラフィ技術の全貌を解説したもの。具体的には、光、電子線、X線・EUVなど様々なリソグラフィ技術の原理、特徴などを述べるとともに、パターン形成に重要なマスク技術、レジスト技術、計測評価技術についてふれ、さらに今後の課題と展望についても詳細に解説している。 --このテキストは、絶版本またはこのタイトルには設定されていない版型に関連付けられています。

登録情報

  • 単行本(ソフトカバー): 312ページ
  • 出版社: 技術評論社 (2011/12/8)
  • ISBN-10: 477414939X
  • ISBN-13: 978-4774149394
  • 発売日: 2011/12/8
  • 商品の寸法: 21.5 x 15.4 x 2.6 cm
  • おすすめ度: 5つ星のうち 5.0  レビューをすべて見る (1 カスタマーレビュー)
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形式:単行本
痒いところに手が届く一冊です。初心者からベテランまで幅広く利用できると思います。私自身半導体歴28年のベテランですが忘れていたことも多く復習する意味で大変役立ちました。
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